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三維微結(jié)構(gòu)顯微干涉檢測(cè)方法
關(guān)鍵詞：三維形貌 微結(jié)構(gòu) 干涉檢測(cè) 顯微鏡
摘要：三維微結(jié)構(gòu)在光陷阱、隱身與光場(chǎng)調(diào)控、超高壓密封、人工生物材料等領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用價(jià)值。三維微結(jié)構(gòu)的加工制造方法,包括激光直寫、光刻、電子與化學(xué)蝕刻等先進(jìn)制造方法發(fā)展迅速,其檢測(cè)儀器有掃描電鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)、激光共焦顯微鏡、低相干干涉顯微鏡,但這些檢測(cè)儀器一直受到西方發(fā)達(dá)國(guó)家壟斷。闡述國(guó)內(nèi)在低相干干涉顯微測(cè)量方法方面的研究進(jìn)展,包括干涉顯微鏡的光學(xué)設(shè)計(jì)方法、裝校流程、寬譜低相干干涉圖處理與微結(jié)構(gòu)形貌復(fù)原方法,并給出了不確定度評(píng)定結(jié)果。結(jié)果表明:儀器三維形貌合成不確定度為0.9 nm,最大微結(jié)構(gòu)軸向分辨率為0.13 nm。
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