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光柵精密位移測量技術發展綜述

高旭; 李舒航; 馬慶林; 陳偉 長春理工大學光電工程學院; 吉林長春130022; 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所; 吉林長春130033

關鍵詞:位移測量 光柵 高精度測量 衍射干涉 

摘要:精密測量是精密機械加工的基礎,是制造行業中影響制造精度的決定性因素之一,在當代精密機械制造領域應用廣泛。基于光柵的精密位移測量系統以其對環境要求小,測量分辨率高等優點,在精密位移測量領域占據重要位置。基于光柵的精密位移測量系統包括光學測量系統、信號接收、電子學細分及整體裝調幾部分。本文主要針對光學測量光路部分進行綜述介紹。首先介紹了經典光柵干涉位移測量原理;其次,綜述了基于光柵的精密位移測量系統的關鍵技術現狀;再次,對比分析了幾種最具有代表性的測量技術,總結其優缺點;最后,對基于光柵的精密位移測量技術進行展望,揭示其高精度、高分辨力、高魯棒性、微型化、多維化、多技術融合的發展趨勢。

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